Bagaimana filter Bayer dibuat?

9

Sebagai lanjutan dari pertanyaan sebelumnya tentang filter bayer, saya jadi bertanya-tanya:

Bagaimana mereka sebenarnya diproduksi? Bagaimana mereka menerapkan sejumlah kecil pewarna untuk setiap sub pixel?

Tebakan terbaik saya adalah semacam etsa kimia berbasis optik yang diikuti oleh rendaman pewarna ... (Per warna)

sensor bayer manufacturing Lightcraft Digital
sumber
1
en.wikipedia.org/wiki/Color_filter_array memiliki bagian tentang proses pembuatan
dav1dsm1th
Oooh tempat yang bagus! @ dav1dsm1th - anehnya wiki filter bayer yang sebenarnya tidak menyebutkan prosesnya, saya akan membaca ...
Digital Lightcraft

Jawaban:

3

Dari abstrak artikel ini Susunan filter warna untuk sensor gambar CCD dan CMOS menggunakan photoresist nada-positif yang diawetkan secara termal yang disembuhkan secara kimia untuk litografi 365-nm

Diazonaphthoquinone-novolak photoresist digunakan untuk menghasilkan filter ini dengan secara berturut-turut mendepositkan dan memola setiap lapisan warna.

Pemahaman saya tentang kutipan ini adalah proses itu adalah sebagai berikut

  1. Fotoresist (polimer dan zat sensitisasi yang relatif transparan dalam sinar tampak tetapi sangat menyerap dalam UV mulai 450nm) dengan pewarna tambahan (merah, hijau atau biru) diendapkan di atas permukaan sensor
  2. Topeng bermotif logam ditempatkan di atas photoresist
  3. Daerah yang terbuka kedoknya dari photoresist terpapar oleh sumber cahaya UV di mana diazonaphthoquinone ditransformasikan
  4. Topeng dihapus
  5. Fotoresis yang terpapar dilarutkan dengan pelarut berair, area yang tidak terpapar tidak larut dengan mudah dan oleh karena itu tetap
  6. 1-5 diulangi menggunakan pewarna dan topeng yang berbeda

Lihat en.wikipedia.org/wiki/Diazonaphthoquinone untuk deskripsi cara kerja photoresist ini.

Brian Kubera
sumber
Saya menduga harus ada langkah memanggang antara 5 dan 6 atau setelah 6. Mungkin juga ada langkah memanggang antara 1 dan 2.
Brian Kubera
Tautan yang bagus - Namun artikelnya sekarang berusia 16 tahun, jadi mengingat peningkatan kerapatan keping ccd / cmos BESAR sejak itu, ini mungkin bukan metode saat ini ... misalnya apakah secara fisik dimungkinkan untuk membuat topeng logam yang cukup baik untuk chip hari ini?
Digital Lightcraft
Apakah ini peningkatan besar? Saya pikir kerapatan piksel telah meningkat sekitar faktor 10. Oleh karena itu, ukuran fitur linier hanya harus berkurang sebesar faktor 3. Namun, Anda mungkin benar dalam menunjukkan bahwa menempatkan topeng langsung di atas photoresist mungkin bukan bagaimana hal itu dilakukan. Ini jauh lebih seperti topeng yang dicitrakan ke photoresist dan secara bersamaan dikurangi sebagaimana diperlukan untuk memola perangkat elektronik sensor. Saya akan mengedit jawaban untuk mencerminkan ini.
Brian Kubera
Setelah pertimbangan lebih lanjut saya pikir topeng kontak, seperti yang saya jelaskan pertama kali, lebih mungkin digunakan untuk memola filter warna. Resolusi topeng logam bisa lebih baik dari 100nm. Ukuran piksel berada di urutan 1um.
Brian Kubera
Satu masalah yang belum saya sertakan adalah pembentukan array lensa mikro, yang jika ada, dapat memisahkan atau merupakan bagian terpadu dari filter warna.
Brian Kubera